电镀液成分：酸性镀铜液中，硫酸铜、硫酸的浓度以及添加剂的种类和含量，直接影响镀层的结晶质量和表面平整度。 电流密度：过高的电流密度会导致镀层粗糙、内应力增大；过低则会影响沉积速度和镀层均匀性。一般脉冲电镀的电流密度在 1-5A/dm² 之间。 温度和搅拌：镀液温度和搅拌速度会影响离子扩散速度和镀层的均匀性。如化学沉银时，需通过恒温搅拌，确保银层均匀性达 90% 以上。
基材预处理：奠定结合与信号基础 先进行除油脱脂，用碱性或中性清洗剂去除基材表面油污、指纹，避免影响镀层附着力。 针对 PTFE、罗杰斯等特殊基材，需额外做等离子体活化 / 化学粗化，提升表面活性与粗糙度。 通过微蚀 + 水洗，去除表面氧化层，同时形成均匀微观粗化面，增强后续种子层结合力。
图形电镀：加厚功能镀层 优先采用脉冲电镀或周期反向电镀，在线路裸露区域沉积铜层（厚度 5-15μm），保证镀层结晶细密、低电阻率。 关键区域（如射频接口、连接器）需进行选择性电镀，额外沉积金、银等低损耗镀层，厚度根据需求控制在 0.1-3μm。 电镀过程中严格控制电流密度（1-5A/dm²）、镀液温度（20-30℃）及搅拌速度，确保镀层均匀性与平整度。
表面处理：提升可靠性与兼容性 非关键区域可做沉银、OSP 或沉锡处理，提升可焊性与抗氧化能力。 关键高频区域需保持金 / 银镀层洁净，可涂覆超薄有机防氧化剂，避免氧化导致信号损耗增大。 处理后需控制表面粗糙度 Ra<0.5μm，减少高频信号散射。